Луч лазера ионизирует воздух в заданном напрвлении. Когда поток ионов с высокой энергией сталкивается с твердой поверхностью он за доли микросекунды разогревает верхний слой материала до десятков тысяч градусов и превращает его в плазму. Процесс столь интенсивен, что подобен плоскому взрыву, который порождает в материале волну напряжения. По окончании импульса материал остывает столь же быстро, как и нагревался. При этом возникает вторая волна напряжения -- из-за теплового сжатия.
Т.е. такое устройство вполне реально. Еще в 70-х годах в СССР данный способ применялся для импульсной имплантации элементов в полупроводники и нанесения материалов на покрытие. Однако в то время это были стационарные установки, в которых только блок питания установки занимал целое помещение...
__________________
Старые игры раздают здесь
|